简介：

公司以全球首家专利的针尖技术为核心竞争力，技术源自于德国伊尔默瑙工业大学，致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发，及其相关设备的产业化。

公司研制一套基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。

技术特点：

。场发射低能电子束
。大幅降低电子束背底散射
。几乎消除电子束临近效应
。光刻5纳米以下单线宽结构
。光刻结构间距小于2纳米
。接近原子级分辨的套刻精度
。线写速度高达 300 μm/s
。大气环境下可实现正负光刻
。正光刻流程无需显影步骤
。无需调制电子束聚光
。大范围分步重复工艺
。Mix & Match 混合光刻模式
。针尖曝光与结构成像实时进行
。真空原位观测光刻图案

功能指标：

产品规格：

探针扫描头配置：

样品台配置：